中国芯“杀”疯! 日媒破防哀嚎: 中国芯片产业链只差最后一块拼图

如果全球半导体产业是一部好莱坞大片，那过去几年中国芯片的突围战绝对算得上“逆袭主角”的励志剧本。从被“卡脖”到一步步打破枷锁，中国芯片产业链的进展快得让外媒都直呼“这不科学！”——尤其是日媒，最近更是破防坐不住了。《日经亚洲》哀嚎预警：中国芯片产业链已经补齐了大半，只差最后一块拼图了——光刻机！

想象一下，如果中国半导体产业是一个超级英雄团队，那么我们的团队有哪些重要成员呢？

中芯国际——钢铁侠，顶着美国制裁硬刚7nm量产，还默默推进“全国产设备”计划，誓要摆脱依赖。

上海微电子——蚁人，虽然目前主打量产90nm光刻机，但别忘了，ASML也是从“小个子”一步步长大的。

华为——美国队长，亲自下场拉队伍，砸钱、挖人才、建生态，甚至悄悄搞定了5nm芯片，令全世界震惊。

深圳新凯来、上海宇量昇等等——神盾局特工，背靠国家队科研力量，专攻光刻技术，闷声憋大招。

这群“英雄”在过去五年里，硬生生在蚀刻、检测、沉积、CMP等关键环节杀出一条血路，国产设备从“能用”到“好用”，一步步挤进全球供应链。

说到光刻机，都知道，它被称之为“工业的明珠”，其重要性不言而喻了。而光刻机却一直被荷兰ASML、日本尼康、佳能三大巨头垄断，尤其是EUV光刻机，更是完全掌握在ASML公司手里。

为了能够阻止中国半导体产业的发展，美国当初一纸禁令，限制光刻机的供应，以为能锁死中国芯片，没想到反而逼出了一场“全村攻关”的戏码。中国的策略很明确、很简单，只有六个字——农村包围城市，懂得都懂！

具体的行动就是，先搞定成熟制程，28nm、14nm国产设备已逐步落地，中芯国际的“去美化”产线就是例子。然后就是光刻机分步突破，上海微电子的90nm光刻机只是开始，DUV（深紫外）光刻技术也在加速，甚至EUV的专利布局早已悄悄展开。同时，中国还采取了“边用边改”战术，国产设备初期良率低？不怕！中芯、长江存储这些大厂硬着头皮用，反馈数据、迭代优化，硬是靠市场养技术。所以说，日媒的担忧不无道理：一旦中国突破光刻机，全球半导体霸权真要变天了。

日媒为啥急了？因为中国芯片的进步直接动了他们的蛋糕。要知道，为了扶持中国半导体产业的发展，咱们国家直接砸了3440亿全力扶持，日本能不慌吗？这次是真的举国之力去干了！

不可否认，过去东京电子、Screen Holdings等企业原本在蚀刻、清洗设备市场占据优势，但中国北方华创、中微半导体的崛起，让日企订单开始流失。而且面对ASML公司的垄断地位，日企根本无计可施。

但中国的处境则不同，一旦中国真搞出DUV甚至EUV光刻机，ASML的垄断地位将彻底动摇，毕竟中国市场占其营收近30%。咱们不买了，咱们可以自给自足了，这就是对ASML公司最大的打击。

最后，中国芯片的终极目标很明确，那就是要实现全产业链自主可控。短期目标，我们要实现成熟制程（28nm及以上）全面国产化，满足汽车、家电、物联网等需求。中期目标，我们要突破DUV光刻机，7nm-14nm制程实现“去美化”。至于长期目标，那就是完成EUV光刻机攻克，高端芯片不再受制于人。到那时，不管是美制裁、ASML公司断供还是日韩设备商的竞争，都不再能阻挡中国芯了！中国芯，将不再是被动挨打的“配角”了。